- Podajnik wyposażony w zbiornik na zawiesinę o pojemności 10 dm3 oraz z możliwością mieszania za pomocą sprężonego gazu oraz mechanicznego (śrubą)
- Podajnik posiada możliwość oczyszczania układu doprowadzania zawiesiny do palnika za pomocą wody
- Ciśnieniowe zbiorniki zawiesiny oraz wody czyszczącej
- System posiada zbiornik na ciecz pozostającą po natryskiwaniu
- Ciśnienie gazu nośnego zawiesiny jest regulowane w zakresie 0-6 bar
- Podawanie zawiesiny - wolumetryczne (ml/min)
- Podajnik dostosowany do używania zawiesiny na bazie wody lub alkoholu
- Podawanie zawiesiny za pomocą argonu, azotu lub sprężonego powietrza (ciśnienie 4-6 bar)
- Podawanie zawiesiny (zakres min.) 10-150 ml/min dla dyszy 0.3 mm
- Rozmiar podawanych cząstek proszku w formie zawiesiny (zakres min.) 0.005-10 µm
- Efektywność osadzania do 50 %, w szczególnych przypadkach do 70% zależnie od materiału i zawiesiny
- Lepkość zawiesiny: 10 mPa*s
- Kontrola przepływu: za pomocą przepływomierza wykorzystującego efekt Coriolisa
- Podajnik wyposażony w elektroniczny panel sterujący podający m.in: natężenie podawania zawiesiny (w ml/min), jej gęstość (kg/dm3) oraz temperaturę
- Podajnik umożliwia użycie również w procesie natryskiwania naddźwiękowego HVOF